N&K Technology 社의 OCD measurement system은 우수한 광학 계측 시스템을 통해 반도체, 포토마스크, 데이터 저장, 디스플레이 분야에서의 박막 (thin film) 정보 및 굴절률 n (Refractive index), 흡광계수 k (extinction coefficient), 그리고 energy band gap 과 같은 데이터를 자동 또는 반자동 방식으로 측정, 분석할 수 있으며 이를 통해 제품의 생산관리와 연구 등에 폭넓게 적용할 수 있습니다.

또한 N&K Technology 社는 데이터의 정밀한 분석을 위해 노이즈를 억제하면서도 강력한 신호를 제어할 수 있는 광학 디바이스를 개발하여 그에 대한 특허를 보유하고 있으며 측정된 데이터를 RCWA(Rigorous Coupled-Wave Analysis) 분석 알고리즘을 사용하여 CD사이즈나 표면 Roughness, 그리고 Trench 및 Hole Structure 등에 대한 2D, 3D 표현이 가능합니다.

N&K 시스템들은 사용자의 다양한 application에 따라 Deep UV–Vis-NIR 영역(190nm~1000nm) 또는 IR 영역(190~1500nm) 까지 확장된 파장 대를 이용하고 박막 층의 표면에서 반사 또는 투과된 신호를 측정하거나 polarized broadband spectrophotometry를 통해 데이터를 취합, 분석할 수 있으며 다음과 같은 다양한 제품 군의 장비들을 공급하고 있습니다.