플라즈마 RIE를 이용한 Advanced & fine process용 건식(dry) 에칭 장비
ES373 - Advanced Process with Fine Process 용으로 설계된 건식 에칭 시스템 - SI Failure Analysist에 특화된 시스템으로 우수한 기능과 사용 용이성을 가지고 있음 - 다층 디바이스에서 높은 종횡비의 에칭이 가능하며 다양한 에칭 조건 저장 설정, 저장가능
ES403 - 최대 8인치 웨이퍼까지 공정가능한 고장분석용 RIE 시스템 - 높은 종횡비의 등방성 및 선택적 이방성 에칭 가능 - 안정적인 에칭속도와 우수한 균일성 - 사용자 친화적 인터페이스