HEPA 필터를 이용하여 clean state 공정 열처리를 하는 목적으로 사용이 되어지며, 크린룸의 높은 유지비용을 줄이기 위하여 3 대까지 사용이 가능함으로써 설치 공간 비용을 최소화할 수 있다.
고온에서 Clean process를 요구되는 응용 분야에서 사용을 하는 목적으로 사용이 되어진다.
초기 오염이 기본적으로 발생이 되어질 수 있는 공정에서 HEPA Filter를 이용하여 열처리를 하는 목적으로 사용되어진다. (N2 Atmosphere option)
- 최대 승온 온도: 350 ‘C ( 260`C option)
- 공정 과정 중에 Class 100 의 Clean 공정 조건을 만족하기 위하여 100% HEPA Filter 로 순환
- Protocol Plus microprocessor control
- 스테인레스 스틸 인테리어
- Stackable to save valuable floor space
- Magnehulic 압력게이지
- Programmable door lock
- Door interlock switch
- Electric door release for ergonomic operation
- UL and G-UL listed
■ Protocol Plus Microprocess-based oven controller
- 8 단계의 ramp 와 soak 설정
- 8 개의 프로그램의 설정
- UL, c-UL listed
- Two type J thermocouples
- 정밀도 : +- 1‘C at 25`C
- Control : Three mode PID. Two thermocouples 온도와 High limit protection 기능을 제공을 하여 준다.
■ OPTION
- PC interface for remote input (RS 485/422/232)
- Cleaning and trip bagging in a clean room
- End of cycle and high limit audible and visual alarms
- Real time clock
- Process control interlock system
- Silicon free construction
- Round and Strip Chart recorder
- Three color process stack light
- Teflon Shelf supports
- Extra shelves
- Oxygen analyzer
- Data acquisition software
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