고온에서 Clean process를 요구되는 응용 분야에서 사용을 하는 목적으로 사용이 되어진다.
초기 오염이 기본적으로 발생이 되어질 수 있는 공정에서 HEPA Filter를 이용하여 열처리를 하는 목적으로 사용되어진다.
LCD 2-14 장비는 분당 5`C 의 승온속도와 공정중에 Class 100을 계속 유지를 한다.
1) Inert Atmosphere
산소지수를 낮추어 제품의 산화를 방지하는 목적으로 질소 및 다른 가스를 주입한 상태에서 열처리를 한다.
Auto Water Cooling 과 Auto Nitrogen 기능을 이용하여 빠른 냉각기능을 가지고 있다.
(Protocol controller에 연동을 하여 사용을 함. )
2) Class A Atmosphere
연소성 용매를 포함하고 있는 제품을 열처리를 할때 NFPA 요구조건에 부합하는 장치를 구축하고 있다.
Pressure Relief (rear of oven)
Purge timer
Forced Exhaust
이 모델은 수평으로 균일하게 흐르는 내부 순환열풍을 이용하여 높은 온도 균일성을 제공하는 장비이다.
- 최대 승온 온도: 350 ‘C
- 공정 과정 중에 Class 100 의 Clean 공정 조건을 만족하기 위하여 100% HEPA Filter 로 순환
- Protocol Plus microprocessor control
- 스테인레스 스틸 인테리어
- Magnehulic 압력게이지
- Programmable door lock
- Door interlock switch
- Electric door release for ergonomic operation
- UL and G-UL listed
■ Protocol Plus Microprocess-based oven controller
- 8 단계의 ramp 와 soak 설정
- 8 개의 프로그램의 설정
- UL, c-UL listed
- Two type J thermocouples
- 정밀도 : +- 1‘C at 25`C
- Control : Three mode PID. Two thermocouples 온도와 High limit protection 기능을 제공을 하여 준다.
■ OPTION
- PC interface for remote input (RS 485/422/232)
- Cleaning and trip bagging in a clean room
- End of cycle and high limit audible and visual alarms
- Real time clock
- Process control interlock system
- Silicon free construction
- Round and Strip Chart recorder
- Three color process stack light
- Teflon Shelf supports
- Extra shelves
- Class A package to meet NFPA 86
- Oxygen analyzer
;)
