Cee 사의 고정밀 수동형 Spin developer Apogee 시리즈는 단일기판 develop을 위한 설비로 track system을 이용하지 않고서도 균일한 품질의 결과를 제공합니다.

모든 Cee의 developer는 pre-wet, developer, rinse, solvent, N2등 다양한 재료를 top-spray, side-spray, puddle dispense 방식을 사용하여 정밀하게 공정을 제어하여 photolithography, E-beam lithography, Thick-film MEMS, Bio-medical, Photomask 공정과 같은 정밀한 어플리케이션에 적용되고 있습니다.

  - 컴팩트한 디자인 (Bench top, Table top 모델로 제공가능)
  - 90° 연속 직사 방식 또는 45° 경사 스프레이 노즐방식 가능
  - Puddle develop / N2 건조 / 배기, 배출 통합디자인
  - 뛰어난 내화학성의 HDPE 재질의 bowl
  - 최대 450mm 대응가능 (Apogee Spin Developer 450모델)
  - Max. rpm : 12000rpm
  - Spin speed resolution : <0.2rpm
  - Spin speed repeatability: <0.2rpm
  - DataStream technology

Developer Option
  - 최대 4개의 Spray 또는 Stream(puddle develop) 노즐
  - Topside/ Backside DI wafer rinse option

Application
  반도체, MEMS, LED, Advanced packaging 등